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汇众达洁净室装修中温湿度的控制HZD
详细信息| 询价留言加工定制：是 品牌：汇众达 型号：HZD 杀有害菌率：99.99 % 除尘率：99.99 % 废气净化率：99.99 % 净化级别：百万-十万级 适用面积：20-2000 ㎡ 杀霉菌率：99.99 % 负离子浓度：1000 个/m3 适用面积：20-2000 ㎡ 杀霉菌率：99.99 % 洁净室装修中温湿度的控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度*来越*精细，所以对温度波动范围的要求*来越*小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求*来越*小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以*须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度*高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产*佳湿度范围为35-45%。
洁净室装修中温湿度的控制，汇众达*业从事实验室设计施工，实验室装修，实验室设备，实验室改建，实验室翻新，实验室隔断等实验室性净化工程，10年净化实验室设计规格安装经验，集规划设计装修施工为一体，*业团队，设备精良，技术*先。在实验室整体规划设计、施工建设及实验室设备生产服务中不断创新，满足不同领域客户需求。
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